第五章采购内容及技术要求.docx
第五章采购内容及技术要求1 .快速进样室（包括相关部件及支架）1.1 快速进样腔体材质为304不锈钢，为柱状腔体，内部表面经过真空标准电解抛光处理；1.2 经充分烘烤后，快速进样室本底真空好于2X10“mbar；1.3 快速进样室配备对N2的抽速抽速不低于90L/s的进口分子泵；1.4 快速进样室配有抽速不低于6h的进口无油涡旋干泵，并配有电磁阀，皮拉尼规；1.5 快速进样室配有一个全量程规，量程为5X10-9Booombar;1.6 快速进样室配有磁力杆和角度调节器；1.7 快速进样室配有储样台，可以放置三个样品和一个靶材；1.8 快速进样室配有CF63快开门；1.9 快速进样室配有手动放气阀；1.10 快速进样室含支架；1.11 快速进样室与PLD有预留接口，用CF63闸板阀连接；2 .PLD真空腔室（包括真空部件和支架）2.1 腔体为无磁304不锈钢，为D350柱状腔体，内部表面经过真空标准电解抛光处理；2.2 PLD腔室在充分烘烤后，本底真空好于IX10"mbar；2.3 PLD腔室配有抽速不低于11.4m3h的进口防腐蚀干泵，和对N2的抽速不低于720LZs进口分子泵以实现真空，分子泵与腔室通过CF160进口手动闸板阀连接,配有电磁阀，皮拉尼规；2.4 PLD腔室与快速进样室之间用CF63进口手动闸板阀连接；2.5 PLD腔配有量程为IO4到0.1TOrr的进口薄膜规，专门用于精确控制生长时的工艺压力；2.6 腔室配有一根机械手和抓手，用于与主腔体传样；2.7 配有一个进口紫外（DUV）专用视窗；2.8 配有一个进口红外加热（DUV）专用视窗；2.9 配有一个DN40CF玻璃视窗，用于红外测温仪测量；2.10 腔体上预留RHEED,荧光屏的法兰接口；2.11 含有水泥墩子用于减少干泵振动对镀膜过程的影响；3 .磁控真空腔室（包括真空部件和支架）3.1 腔体材质为无磁304不锈钢，为D300柱状腔体，内部表面经过真空标准电解抛光处理，本地真空好于lXl（y8rnbar;3.2 磁控腔室通过旁抽气路与PLD腔共用分子泵组；3.3 磁控腔室与PLD腔室用CFlOO的进口闸板阀隔开；3.4 万兹控腔室配有磁耦合式机械手，实现与PLD腔室之间进行传样；3.5 万兹控腔室配有进口全量程规管，CF35,5×IO9to1000mbar,并配有线缆；3.6 磁控腔室配有CF160快开门方便换靶；3.7 磁控腔室配有CFlOO的视窗，并配有视窗挡板；4 .磁控样品台组件4.1 配有旋转加热样品台，安装法兰CF160,样品托尺寸15mm×18mm（flag-type）,样品可以通过辐射方式加热，最高加热温度800C,通过PlD温控仪实现温度精确控制4.2 样品台可以手动升降；4.3 样品台配有手动挡板；5 .磁控工艺气路5.1 配有2个工艺气路，每个气路分别配有1个进口流量计（0200seem）,流量计带有计算机通讯接口，每个流量计与腔体之间配有1个手动针阀；5.2 配有流量计控制器6 .PLD样品台组件（五维激光加热样品台）6.1 样品尺寸：5mmX5mm6.2 样品台Xy方向行程：±12.5mm,精度0.1mm,通过千分尺控制；Z方向行程：100mm,精度1mm,配合15mmX18mm（flag-type）旗形样品托使用；6.3 样品台可实现样品面内与绕轴（360°）旋转；6.4 配套3套激光加热样品托，兼容旗形样品托（flag-type）；6.5 衬底配有手动挡板7 .PLD红外激光加热组件7.1 系统配有功率不小于200W,工业级红外激光器（含电源和光纤）；7.2 配有手动调节红外激光光纤支架及光路；7.3 样品可在IOPa臭氧环境中加热至85（C,真空环境加热至1000oC,5mm×5mm样品的温度均匀性好于1%；7.4 配有红外测温仪3001400。C含控制器，用于测量样品温度，可以通过软件实现样品的精确控温；8 .PLD靶台组件8.1 PLD腔体底部装有一个DN200CF靶台，配有同时安装6个1英寸靶；8.2 Z方向移动：050mm,手动；8.3 电动切换靶位；8.4 靶台可以公转（用于选靶），靶台可以自转，并可以通过公转摆动实现靶面扫描功能，公转、自转由步进马达驱动。靶台自转和公转摆动可以在激光束不动的情况下，使激光相对扫过整个靶材表面，从而保证激发出的等离子体羽辉位置、角度都不发生改变；9 .PLD准分子激光光路9.1 全反镜2个，70mm,反射率R>98%;9.2 熔融石英聚焦透镜，70mm,焦距f=50cm;9.3 配有手动调节紫外激光光纤支架及光路；9.4 配有激光器支架及防护罩；9.5 配有1个四刀口可调光阑（手动），安装于激光出光口，可以根据需要改变激光光通量；10 .自动控制（包含电脑，机柜及自动控温烘烤装置及控制软件）10.1 配有控制机柜，用于放置各种控制电源，并配有机柜总电源；10.2 配有1台工业电脑用于安装RHEED软件以及系统控制软件；10.3 配有系统控制软件；10.4 配有显示器支架；10.5 配有LED照明装置；10.6 配有双通道真空泵组控制器；10.7 配有四通道真空规控制器；11 .电动挡板（磁控和PLD腔室各一套）11.1 配有一维电动挡板，CF40,移动距离150mm；11.2 通过光栅尺进行精确定位；11.3 可通过软件控制电动挡板的移动速度和方向；12 .PLD薄膜表征组件12.1 系统配有能量最高可达30kV,工作气压最高可达0.4TOrr（50pa）的torrRHEED电子枪，用于样品表面形貌表征与样品层厚标定，采用高稳压电源，保证电子束的能力稳定性优于IO4rad,工作距离为150mm时，电子束斑最小可达50m;12.2 配有U-金属屏蔽罩；12.3 配有荧光屏和挡板；12.4 含差分泵组：两个对Nz的抽速抽速不低于90LzS的进口分子泵，一个抽速不低于6m3h的进口无油涡旋耐腐蚀干泵；12.5 配有DN40CF进口闸板阀；12.6 配有可调焦镜头，进口CCD（电荷耦合元件的英文简称）和原厂数据采集软件；软件能够对所选的三个区域进行数据采集，可同时记录三个点RHEED的震荡曲线，并能进行数据处理、保存；配有遮光罩，防止外界光线干扰；13.臭氧气路1.1 1臭氧发生器，15%浓度；1.2 2臭氧尾气灭活装置；1.3 3防腐蚀臭氧管路，在真空腔内部具有延长管（导流管），使样品表面产生局部高氧压；1.4 4蓝宝石密封漏阀；14 .磁控靶枪电源14.1 配2个进口超高真空兼容2inch标准永磁靶，配有CFlOO安装法兰，配有挡板，带水冷，射频直流兼容，带有靶罩（chimney）,防止交叉污染；14.2 配2个进口超高真空兼容2inch标准强磁靶，配有CFlOO安装法兰，配有挡板，带水冷，射频直流兼容，带有靶罩（chimney）,防止交叉污染；14.3 配3个进口IKW直流电源，含线缆，为磁控靶枪同一原厂的产品；14.4 配1个最大功率可达300W的进口射频电源，含线缆，输出功率0300W,输出阻抗50Ohms,±5OhmsNominal,谐频-50dBc,脉冲0IKHz,1HzSteps,50微秒最小脉冲；14.5 配1个高精度膜厚仪，精度0.01A,超高真空探头，配有线性移动位移器，可实现探头的缩进；15 .减震组件15.1 所有分子泵都通过波纹管和橡胶做减震；16 .分束镜16.1 配有beamsplit分束镜，248nm,实现两台PLD系统的同时使用；17 .将原有PLD系统恢复到可以正常使用的状态；18 .系统集成与安装调试
